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  光刻机又叫掩模对准曝光机，是一种用来制造‌半导体芯片的关键设备，经过相似相片冲印的技能，将掩膜版上的精密图形经过光线的曝光印制到‌硅片上。‌其大范围的应用于半导体芯片的出产，是制造高端芯片不可或缺的设备，技能水平和制造精度直接影响到芯片的功能和制程水平。

  从产业链来看，光刻机上游首要可分为材料及设备、组件，其间材料及设备包含光刻胶、电子特气、涂胶显影设备等；组件包含激光器、掩膜板、掩膜台、遮光器、能量探测器、能量控制器等。中游为光刻机的出产；下流为芯片制造、芯片封装、功率器材制造和LED、MEMS制造等应用领域。

  光刻机是半导体设备的一种，大多数都用在半导体芯片的制造的完好过程中，在光刻机在半导体设备占比到达24%。

  从商场规模来看，2020年到2023年全球光刻机商场规模持续增加，到2023年全球光刻机商场规模到达了271.3亿美元，同比增加5.0%。

  从产品结构来看，全球光刻机商场销量占比最高的为KrF，占比为37.9%；其次为i-Line，占比为33.6%；第三为ArFi，占比为15.4%。总的来看，全球光刻机商场销量其实是以低端产品(KrF、i-Line)为主，算计占比到达了71.5%。

  从企业销量来看，在2023年全球光刻机销量前三的企业分别为ASML、Canon、Nikon，销量分别为449台、187台和45台，其间在ASML在ArFi、ArF、KrF销量分别为125台、32台、184台。

  观研全国®专心职业剖析十三年，专业供给各职业包含现状解读、竞赛剖析、远景研判、趋势展望、战略主张等内容的研讨陈述。更多本职业研讨详见《我国光刻机职业现状深度剖析与出资远景猜测陈述（2025-2032年）》。

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